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印製電路板含氰廢(fèi)水處理

作者: 小清 編輯: 小清 來源: 水(shuǐ)清木華 發布日期: 2020.04.15
信息摘要:
印製電路板的含氰(qíng)廢水主要來自沉金工序的清洗(xǐ)過程。含氰廢水中主(zhǔ)要含(hán)有COD及重金屬與氰形成的絡合物(Cu2+、Au2+、CN-)等汙染物。此類…

印製電路板的含氰廢水主要來自沉金工序的清洗過程。含氰廢水中主要含有(yǒu)COD及重金屬與氰形成的絡(luò)合物(Cu2+、Au2+、CN-)等汙染物。

印製電路板廢水處理

此類廢水必須進(jìn)行破氰處理,可采用堿性氯化法,在堿性條件下,分批投入NaClO氧(yǎng)化劑,使絡合物(wù)中的氰離子釋(shì)放(fàng)出來,經過兩級反應(yīng),使CN-離子生成穩定無毒的CO2和N2,從而(ér)達到去(qù)除CN-的目的。主要反應式如下(xià):

CN-+ClO-+H2O=CNCl↑+2OH-

CNCl+2OH-=CNO-+Cl-+H2O

2CNO-+3ClO-+H2O=2CO2↑+N2↑+3Cl-+2OH-

式(shì)①②為一(yī)級氧化反應,式③為二級氧化反應。式①產物氯化氫CNCl為易揮發的有毒物(wù)質,且在(zài)酸性條件(jiàn)下不穩定。

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