印製電（diàn）路板（PCB）廢水處理方法

1.脫模顯影廢液。脫（tuō）模顯影廢（fèi）液主要為顯影、濕膜顯影工序產生的含油大量油（yóu）墨的高濃度COD廢水。有兩種處理方法：一種為酸析法，利用分流出來（lái）的廢酸液摻混進行（háng）攪拌（bàn），在酸性條件（jiàn）下（pH2.5~3.0），大（dà）多有機（jī）汙（wū）染物可以析出：另一（yī）種催化法，將反應池中的廢水pH值調至2.5，向池中分別投加FeSO4催化劑、H2O2強氧化劑，反應一定時間後，消化分解廢液中的有機物，清液自動（dòng）流入有機廢水調（diào）節池（chí）進行後（hòu）續處理。

2.含氰廢水（shuǐ）。此類廢水主要來自（zì）沉金工序（xù）的清洗過（guò）程。廢水主（zhǔ）要含有COD及重金屬與氰形成的絡合物（Cu2+、Au2+、CN-）等汙染物。此類廢水必須進（jìn）行破氰處（chù）理，可采用堿性（xìng）氯化法，在堿性條件下，分批投入NaClO氧化劑，使（shǐ）絡合物中的氰離子（zǐ）釋放出來，經過（guò）兩級反應，使CN-離子生成穩定（dìng）無毒的CO2和N2，從而達到去除CN-的目的。主要（yào）反應式如下（xià）：

CN^-+ClO^-+H₂O=CNCl↑+2OH^-

CNCl+2OH^-=CNO^-+Cl^-+H₂O

2CNO^-+3ClO^-+H₂O=2CO₂↑+N₂↑+3Cl^-+2OH^-

式①②為一級氧化反應，式③為二級氧化反應。式①產物氯化氫CNCl為（wéi）易揮發的有毒物質，且在酸性條件下不穩（wěn）定。式②反（fǎn）應需控製pH值為11.0~12.0，ORP=350mV，反應時間一般在15min內。式③反應需控（kòng）製pH值為7.0~7.5，ORP=650mV，反應時間為30min。

3.在堿性條件下采用Na2S沉澱工藝。比較CuS、Cu(OH)2的溶度積，lgKsp(CuS)=35.2，lgKsp(Cu(OH)2)=19.66。可見金屬硫（liú）化物的穩（wěn）定常數大（dà），易於沉澱，除銅效率高，且適（shì）用的值範圍大（pH值為9.5~11.0）。由於金屬硫（liú）化物在酸性條件下不穩定，容易（yì）產生有毒氣體H2S，因此反應不能在酸（suān）性條件下進行。含氰廢水處理後排（pái）入（rù）綜合池。

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